Maska Czysta Glinka Przeciw Niedoskonałościom

L’Oréal Paris Maska Czysta Glinka Przeciw Niedoskonałościom

34,99 zł (50 ml)

Wyjątkowe połączenie 3 mineralnych glinek z ekstraktem z alg morskich dla zredukowania zaskórników i zwężenia porów, bez wysuszania skóry. Mineralne glinki, dzięki swoim unikalnym strukturom są w stanie absorbować zanieczyszczenia i nadmiar sebum bez naruszania warstwy ochronnej skóry. Naturalny ekstrakt z alg morskich, bogatych we właściwości przeciwzapalne, zmniejsza pojawienie się zaskórników i tworzy naturalną barierę przed czynnikami powodującymi niedoskonałości.

Zastosowanie produktu

Na oczyszczoną skórę twarzy nałóż cienką warstwę, omijając okolice oczu i ust. Pozostaw do wyschnięcia na 5-10 minut. Następnie spłucz ciepłą wodą lub usuń wilgotną chusteczką. Stosuj dwa razy w tygodniu.

Składniki

Aqua / Water, Kaolin, Glycerin, Alcohol Denat., Isononyl Isononanoate, Cetearyl Alcohol, Mica, Ci 77891 / Titanium Dioxide, Stearic Acid, Stearyl Alcohol, Zinc Sulfate, Glyceryl Stearate Citrate, Etearyl Glucoside, Sodium Hydroxide, Laminaria Saccharina Extract, Pyridoxine Hcl, Myristic Acid, Palmitic Acid, Moroccan Lava Clay, Capryloyl Glycine, Xanthan Gum, Montmorillonite, Butylene Glycol, Tocopherol, Henoxyethanol, Ci 77499 / Iron Oxides, Ci 77510 / Ferric Ferrocyanide, Linalool, Limonene, Parfum / Fragrance. (F.I.L. B207877/1)

Obserwuj L’Oréal Paris